深紫外線描画装置

ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニックの一般的なシステムのレーザー光源のレンジは355nmから532nmであり、すべての標準的なUVフォトレジストに露光可能です。特殊なアプリケーションの繊細なレジストの場合にはより短い波⾧が求められます。同時に、波⾧が短いことでより微細な構造を生成することが可能です。そのようなご要望にお応えするため、ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニックは244nmレーザー光源を使用した深UVリソグラフィ・システムを開発・製造しました。本システムはレジストに露光し、200nmまでの分離構造を500nm間隔で作成できます。他のDUV光源も需要により対応いたします。