製品概要

マスクレスリソグラフィは多くの分野に応用されています。従来はフォトマスク製造の一般的なUVリソグラフィで活用されてきました。レーザー直接描画は光学マスクレスリソグラフィの中で成⾧著しい方式であり、おおよそ500nmからそれ以上のサイズの線幅のストラクチャーサイズのフィーチャーウェハプロセスに対し、さらなる"柔軟性"・"使い易さ"・"費用対効果"をもたらします。

ハイデルベルグ・インストルメンツのMLA、マスクレスアライナーは最先端UVリソグラフィのアプリケー
ションで求められる、柔軟性・解像度・描画速度を提供します。
当社のμPGシリーズは、直接描画のアプリケーションと少量ロットのマスク製造において、非常に経済的且つ使い易いマイクロパターンジェネレータです。DWLシステムの機能性と柔軟性により、要求の厳しいリソグラフィのアプリケーションや高精度フォトマスク製造の直接描画に於いて究極のツールと言えるでしょう。

VPGシステムは小型・大型共に、大型のフォトマスク製造に於いて求められる優れた描画速度と
高精細を特徴としています。その優れたパフォーマンスにより、VPGシステムはマスクアライナーやス
テッパを用いる従来の技術に替わって採用されています。