特殊基盤

ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニックの標準的なリソグラフィシステムは、最大横寸法1400 x 1400mm²までの基盤に対応可能です。より大きな基盤に関しては描画中基盤を固定し露光ユニットを移動させる特別に設計された方式を必要とします。弊社は3100x50mm²リサイズのリニアエンコーダ向けや、2400x1900mm²にも及ぶ大盤フォトマスクの生産等向けにこのタイプのシステムを設計・開発しております。後者のシステムは全自動ローダーを搭載しています。

アプリケーションの多様化した現在では、横寸法だけではなく様々な厚みや材料特性をもった基板が用いられます。ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニックの標準的なシステムは、一般的な半導体素材全てに対応しております。1400x1400mm²に及ぶ非常に薄くて柔らかい基板に対応する特殊チャック装置とローダーを開発した経験もございます。

深構構造のような、高さにばらつきのある既存の構造上に描画を行うアプリケーションもございます。ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニックは多様なアプリケーションに対応致します。

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