直接描画システム

ハイデルベルグ・インストルメンツの直接描画システムは汎用性と柔軟性に優れており、フォトマスク製造のみならず、ウェハや他の基板への直接露光としても最適なリソグラフィ装置です。MEMS,BioMEMS, マイクロオプティクス, ASIC, マイクロ流路, センサ, CGH等、微細構造の形成が必要な様々なアプリケーションでお使いいただけます。

μPG 101 - 卓上マイクロパターンジェネレータ

µPG101

μPG 101は柔軟で直感的な操作が可能なマスクレスリソグラフィのエントリーモデルで、研究開発に最適です。

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DWL 66+ - 研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

<span>DWL66</span><span><sup>+</sup></span> 新型DWL66+レーザーリソグラフィシステムは高精細かつ経済的なパターンジェネレータであり、少量ロットのマスク製造や直接描画に最も適しています。

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DWL 2000/DWL 4000 - 直接描画リソグラフィシステム

DWL2000 DWL2000/4000は、高速で柔軟な、マスク製造や直接描画のための高精細パターン・ジェネレータです。2次元パターンだけでなく、複雑な3次元パターンを厚いフォトレジストにシングルパスで形成できます。

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VPG+ 200/VPG 400 - 小面積用大ロットパターン・ジェネレータ

files/heidelberg/images/New product pictures/Thumbs/HIMT_VPG400_Highres.jpg VPG+ 200/400レーザーリソグラフィシステムは、大ロットの小面積マスク製造や直接描画において高いコストパフォーマンスを発揮するパターン・ジェネレータです。

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VPG+ 800 / VPG 1100 / VPG 1400 - 大面積用大ロットパターン・ジェネレータ

VPG1400 VPG+ 800/1100/1400レーザーリソグラフィシステムは最大1400mmx1400mの高精細フォトマスク生産において高いコストパフォーマンスを発揮するパターン・ジェネレータです。

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