ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック 社史 30年の経験と実績

 

1984 – 1990

 

  • ハイデルベルグ大学や欧州分子生物学研究所 (EMBL)の研究者達、また生体医用光学、共焦点顕微鏡、ウエハ・パターニング、検査など多彩な分野の専門研究所出身の研究者達により、Heidelberg Instruments GmbH 設立。
  • Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH が、半導体産業向け統合型パターニング装置の独立専門企業となる。

 

1991 – 1995

 

  • 最初のDWL(直接描画システム)を開発し、欧州情報技術研究開発戦略計画 (ESPRIT) 管轄下のポルトガル INSEC及び独国シュツットガルト Institute for Microelectronics (IMS) の協力のもと納入。1.2μmノード CMOSレイヤの直接パターニングを行う装置で、DWL 2.0と命名。最初の商用システムは独国 ML&C GmbH へフォトマスク製造用に納入。
  • スイスIMTに最初の大面積描画システム(描画エリア 800 x 800 mm、分解能 1μm、アドレス・グリッド 25nm)を納入。
  • 最初の試作向け高解像度直接パターニングシステムは研究施設や大学での使用を具体的に想定し開発され、DWL66と命名されImperial Collede of Londonに納入。DWL66はその後も幾度もの改良を重ね、今日では、マイクロオプティクス、ライフサイエンス、他のナノ/マイクロ技術関連分野の R&D において、最も実績のあるマスクレス・リソグラフィ・システムの一つとなっています。

 

1996 – 2000

 

  • エレクトロニクス産業向けレーザーイメージングシステムの代表するサプライヤーであるGerber System CorporationとのOEM契約を締結。大面積描画システムの供給を目的としたこの契約は同社がBarco Graphicsに買収されるまで継続されました。
  • 実績あるブランドとして日本、中国、韓国、台湾、シンガポールへの供給を開始し、アジア市場に参入。台湾と中国にインストレーション後のサポート業務やアプリケーション対応を行う現地オフィスを開設。
  • 北米地域のサービスオフィスの開設と共に自社での販売及びマーケティングを開始。今日では北米はハイデルベルグ・インストルメンツにとって大小の企業と多くの研究所・大学を含む80位上の顧客を抱える重要な市場となっている。

 

2001 – 2010

 

  • 増加する販売実績と拡大する市場に対応するため、日本・韓国にサービスオフィスを開設。また同市場の新たなとパートナーのアプリケーションや研究開発をサポートするため、ローカルプロセスアプリケーションラボの開設を発表。
  • 信頼性とコストパフォーマンスに優れた大面積リソグラフィシステム Volume Pattern Generator (VPG) シリーズを発表。電子パッケージングやカラーフィルタを代表とする大面積・高解像度を必須としたアプリケーションにおいて今日の理想的なフォトマスク量産向け機器として、高いイメージ品質と位置決め精度を誇ります。本シリーズは現在でも高い評価を得る業界標準のプラットフォームとなる。
  • 卓上型マイクロパターンジェネレータμPG101を発表。非常に高いコストパフォーマンス、小サイズ、高いユーザビリティを持つ統合型ユーザーインターフェイスを実現し、MEMS、Bio MEMS、光集積回路、マイクロ流路など高い精度と分解能が求められるマイクロストラクチャ用途に最適。

 

2011 – 2013

 

  • μPG501卓上マスクレスアライナーシステムを発表。直接描画システムにおけるシェアを拡大。μPG501は手頃な価格ながら高いパフォーマンスを実現し、MEMS、光集積回路、マイクロ流路、ラボ・オン・チップなど種々のデバイスの試作に最適。ハイデルベルグ・インストルメンツは試作や少量生産においてマスクアライナーとフォトマスクを不要とするマスクレスアライナーのトレンドを創り出しました。
  • VPG200/400アドバンスド小~中型サイズマスクレスアライナーシリーズを発表。このシリーズは20年以上に渡る応用プロセスでの経験と産業向け大面積用VPG (Volume Pattern Generator) 採用されてきた実績を最先端技術に結集した製品です。その高速性から、VPG200とVPG400はマスクレスアライナーとしてフォトレジストを塗布したウェハ等のフラットな基盤に直接描画が可能です。
  • 本拠地ハイデルベルグのプロセス&アプリケーション・ラボを拡張。最先端の製造、測定、加工装置を増設。また中国と米国に最先端のプロセス&アプリケーション・ラボの新設を発表。
  • 数年間連続で受注、収益、利益における二桁成長を達成した後、2013年には前年比で受注の40%増加を発表。

 

2013 – 現在

 

  • RAG Beteiligungsgesellschaft Heidelberg Instruments社株をの00%を取得。RAG BeteiligungsgesellschaftCFOのHelmut Linssen博士によれば、機械工学、オートメーション、産業技術といった分野に特化し、国際的な成長セグメントを有する中堅企業への投資というRAG Beteiligungsgesellschaft投資戦略に、Heidelberg Instruments社が非常にマッチしているとしています。
  • 新世代のマスクレス・アライナー・システム MLAシリーズを発表。MLAは特に簡単操作と高速描画に重点を置いて設計された高性能な直接描画システムです。シングルレイヤ/マルチレイヤに関わらず従来のマスクアライナーの全ての機能を有し、さらにフォトマスクを用いた描画技術の限界の打開に成功しています。MLAシリーズはフォトマスクが不要で、ユーザーの開発サイクルを劇的に短縮できます。